A nagy tisztaságú szilícium-nitrid leválasztó szer részecskemérete 1-2 mikron között van, ami hatékonyan megoldja az oxidációs problémát a bevonat magas hőmérsékleten történő kikeményedési folyamata során, nagymértékben javítva a polikristályos szilícium és az egykristályos szilícium tisztaságát, porának tisztasága pedig több mint 99,99%-ot ér el, és felhasználható kvarctégely bevonóanyagként polikristályos szilícium tömbök olvasztásához a fotovoltaikus iparban.
Hatékonyan megakadályozhatja, hogy a tégely belső fala hozzátapadjon az olvadt szilícium anyaghoz, megkönnyíti a formázást, és gátrétegként szolgál a szilíciumöntvény tisztaságának biztosítására. A terméket számos gyártó használta Jiangxi-ban, Fujian-ban, Jiangsu-ban, Henanban stb., és kiváló a formázási teljesítménye. , és a nano szilícium-nitridhez vagy más típusú leválasztó szerekhez képest kiváló antioxidáns tulajdonságokkal rendelkezik, így a szennyeződések, például a szén és az oxigén koncentrációja hatékonyan szabályozható a gyártási folyamat során.
A termék nagy tisztaságú, egységes szemcsemérettel rendelkezik, teljesítménye teljesen összevethető a hasonló külföldi termékekkel. Tömeggyártásra került.
